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SO2-12-F　300mm晶圆洁净烘箱

　这款洁净烘箱可处理 300 毫米（12 英寸）晶圆，用于半导体生产。
　通过 FOUP，每个腔室可以全自动处理 50 片一体式。
　该系统可用于聚酰亚胺和其他材料的低温处理。　

• • 用于 FOUP 操作的全自动洁净烘箱
  • 每个腔室最多 50 片一体式
  • 一个机器人可用于两个腔室
  • 每个腔室 2 个 FOUP
  • 使用双片式机械手臂实现晶圆高速传送

　

CLH 系列高温洁净烘箱

通过耐热高性能过滤器和独特的冷却装置，可在清洁环境中进行高温烘烤。热风循环系统用于进行高精度的晶圆和玻璃基板烘烤/老化、聚酰亚胺固化和退火。

工作温度: 100 至 450°C（标准型）
　　　　　　　100 至 530°C（H 型）

• • 安装了耐热高性能过滤器和独特的冷却装置，可进行高温烘烤。
  • 当温度稳定时，腔室内部可保持 100 级清洁度。
  • 这种类型的烘箱适用于半导体晶圆和玻璃基板烘烤、老化和其他需要高精度的热处理。
  • 可将惰性气体引入腔室，将烘箱用作惰性气体烘箱。