商品ラインナップ

クリーンプロ^®-RZ

クリーンプロの寿命10倍
ジェイテクトのクリーン環境用ベアリング「クリーンプロ^®シリーズ」の長寿命タイプ。転がり面に形成したゲル状のふっ素高分子被膜によって低発じん・低アウトガス性能は同等以上、さらに標準タイプに比べ10倍以上の長寿命を実現しました。

用途：半導体製造装置、露光装置、搬送装置、真空モータ、真空機器

クリーンプロ^®-RB

260℃クリーン、真空対応
ジェイテクトのクリーン環境用ベアリング「クリーンプロ^®シリーズ」の高温タイプ。ベアリングの転がり面に耐熱性のあるふっ素高分子被膜をコーティング、耐熱性の向上を実現。260℃の高温クリーン環境に適応する製品です。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、搬送装置、真空機器、スパッタ装置

Newクリーンプロ^®-PR

クリーンルーム、真空機器などに
ジェイテクトのクリーン環境用ベアリング「クリーンプロ^®シリーズ」の標準タイプ。グリースを使用するクリーン環境用ベアリングと比べて、低発じん、低アウトガスを実現。様々なクリーン環境用途に適します。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、真空機器、露光装置、スパッタ装置、真空モーター

EXSEV^®-EX

グリースの潤滑性をクリーン・真空用途に
クリーン環境、真空環境に適したふっ素系EXSEV^®-EX（グリース）を封入しています。環境規制対応（PFOA 非含有）。また、グリース潤滑ですので、潤滑信頼性に優れています。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、搬送ロボット、真空ポンプ

EXSEV^®-FA

クリーン、真空対応の基本仕様
クリーン環境・真空対応の基本仕様となるベアリングです。一般的なグリースや、さび止め油を使用しない固体潤滑軸受です。保持器材料に発じんが少ないふっ素樹脂を使用することで、発じん量を低減しています。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、搬送装置、検査装置

コロガードプロベアリング^®-SC

極限の腐食環境に
構造自体は標準のセラミック軸受と変わらず、玉と軌道輪を、窒化けい素より耐食性の高い炭化けい素に変更。耐⾷セラミック軸受でも適応しきれない、強酸の溶液中での長寿命を実現。

用途：アルミ箔コンデンサ製造装置

セラミック軸受

セラミックを様々な用途に
通常の軸受鋼を用いたベアリングが使用できないクリーン環境、腐食環境、真空環境、絶縁用途や非磁性用途での使用を想定したベアリング。玉と軌道輪にセラミックス（窒化けい素）を使用することで、通常軸受鋼より高い耐食性能を実現。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、半導体検査装置、合成繊維製造装置、製缶装置、超音波モータ

コロガードプロベアリング^®-ZO

耐食性と耐衝撃性の両立
軸受の材料にセラミックス（ジルコニア）を用い、PEEK 樹脂保持器の固体潤滑成分により潤滑します。腐食性のある溶液中や水中などで使用でき、耐衝撃性にも優れます。

用途：高機能フィルム製造設備、洗浄装置

コロガードプロベアリング^®-MD

塩水、薬液などの環境に
軸受材に耐食性に優れた析出硬化系ステンレス鋼を、転動体にセラミックス（窒化けい素）を用いた組合せセラミック軸受。ふっ素樹脂保持器に含まれる、ふっ素高分子によって潤滑する固体潤滑軸受です。

用途：半導体製造装置、薬品製造装置、食品機械、洗浄装置

EXSEV^®-SK

ステンレス軸受のスタンダード
ステンレス軸受の標準になるベアリングです。軌道輪、玉、保持器、シールドにステンレス鋼を用いたベアリングに、リチウム系EXSEV^®-KHD（グリース）を適量封入しています。軽微な腐食環境に対応します。接触ゴムシールタイプも対応可能です。

用途：化学装置、搬送装置

総玉形セラミック軸受

超高温800℃
800℃の超高温に対応するベアリング。すべての部品をセラミックス（窒化けい素）で構成しており、保持器は用いない構造。高温だけでなく耐食性、非磁性、絶縁性能を有し、多様な環境に適応します。

用途：焼成炉内搬送装置、炉内ファン

EXSEV^®-XT

350℃でもグリース潤滑で長寿命
マルテンサイト系ステンレス鋼の軸受に、オーステナイト系ステンレス鋼の保持器とシールドを用い、350℃まで使用可能な高温対応ふっ素グリースを封入した軸受。高温環境への対応と、潤滑性能を両立しています。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、搬送ロボット、真空ポンプ

EXSEV^®-WS

耐熱350℃と耐過重性を両立
保持器を用いず、二硫化タングステン系自己潤滑複合材のセパレータによって玉を等間隔に保持。含有されている耐熱性の高い二硫化タングステンによって潤滑するベアリング。固体潤滑ベアリングとしては、耐荷重性に優れており、高温・真空に加え、比較的荷重が大きい用途にも適します。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、真空蒸着装置、PDP製造装置
※ 横軸での使用を推奨します。

EXSEV^®-MG

超高温真空対応
350℃までの高温かつ、10-10Paの超高真空に適応するベアリング。ステンレス鋼製の玉にイオンプレーティングした銀によって潤滑する固体潤滑軸受。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、真空蒸着装置、医療機器、真空モーター

EXSEV^®-PN

300℃対応の優れた耐熱性
300℃対応の優れた耐熱性を持つ真空環境対応のベアリング。保持器に含有されている二硫化モリブデンなどによる固体潤滑剤によって潤滑。保持器材料は、耐熱性に優れたPEEK樹脂をベースにしており、高温において安定した性能を発揮します。

用途：紙パック製造装置、液晶洗浄装置

EXSEV^®-MO

300℃対応の基本仕様
MOベアリングは300℃対応の高温環境向けの基本仕様となるベアリング。保持器に対して、焼付け加工した二硫化モリブデンによって潤滑する固体潤滑軸受です。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置、真空蒸着装置、ターボ分子ポンプ、回転炉

非磁性組合せセラミック軸受

ステンレスの非磁性対応
軸受材に非磁性ステンレス鋼を、転動体にセラミックス（窒化けい素）を用いた組合せセラミック軸受。ふっ素樹脂保持器に含まれる、ふっ素高分子によって潤滑する固体潤滑軸受です。

用途：半導体製造装置、半導体検査装置、製缶装置、超電導関連装置、溶接機

組合せセラミック軸受

絶縁、高速用途に
標準的な組合せセラミック軸受。外輪・内輪に高炭素クロム軸受鋼、転動体（玉）にセラミックス（窒化けい素）を用いたベアリング。グリースや油によって潤滑します。

用途：高速撚線機ガイドロール、モータ、発電機

Kシリーズ総玉形組合せセラミック軸受

超薄肉形ベアリングのクリーン仕様
産業用ロボットに広く使用されているKシリーズ超薄肉形玉軸受をクリーン、真空用途に適応させたベアリング。潤滑はEXSEV^®-EX(グリース)（ふっ素系）を標準としています。

用途：半導体製造装置、液晶製造装置

特殊環境用リニア玉軸受

コンパクトな無限直線運動ベアリング
外筒に玉、保持器、シールドを組み込んだコンパクトな無限直線運動軸受。EXSEVシリーズの特殊環境用素材を用いて作成されたものであり、用途に合わせて軸受材や転動体の素材、潤滑方法の選択が可能です。

特殊環境用リニアウェイ

容易に高精度な直線運動が可能
スライドユニットがトラックレール上を無限直線運動する軸受ユニット。スライドユニットおよびトラックレールを取付けボルトで固定、高精度な直線運動が得られます。EXSEVシリーズの特殊環境用素材を用いて作成されたものであり、用途に合わせて素材、潤滑方法の選択が可能です。

ハイアビリーアンギュラ玉軸受

工作機械主軸用に最適化
工作機械主軸用に最適化した軸受。高速性と急加減速性に優れ、オイルエア潤滑による超高速運転には、とくに優れた性能を発揮。グリース潤滑においても従来品と比べ高速運転を可能にします。

食品機械用グリース封入ベアリング

国際規格NSFに登録されたグリースを封入したベアリング
偶発的に食品、化粧品や衛生製品に触れる可能性のある加工工程では、一般的なグリースではなく、より安全性の高いグリースを封入することが推奨されています。

セラミックボール

様々な環境に適応するセラミックボール
軸受鋼やステンレス鋼に比べ、耐熱性、耐食性、軽量など性能向上を実現します。玉径0.8mmから47.625mmまで幅広いサイズを取り揃えています。一度、お問合せ下さい。