真空乾燥装置

独自の薄型パネルヒータを真空チャンバー内に配置することで、第10世代までの大型液晶（LCD）基板の、真空中での脱水ベークや高沸点溶剤の乾燥、アニール処理を可能にしています。
前後工程とのインライン化やロボット対応など様々な形態
に対応します。

Features . Outline特長・概要

• 高輻射率の薄型パネルヒータを真空チャンバー内部に装着することにより、真空中での
  　 加熱処理が可能
• 第10世代までの大型基板への対応が可能
• 前後工程装置との真空ロードロック接続や基板搬送ロボットを組み合わせたシステムなど、
  　 様々な処理形態に対応可能

型式	CCBS-V
基板サイズ(mm)	300(W) × 400(L) 〜 3000(W) × 3200(L)
使用温度範囲	RT〜250℃
温度精度	±3℃
クリーン度	Class 10 (0.3μm)
真空到達度	10-3Pa
用途	脱水ベーク、溶剤乾燥、アニール