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真空乾燥装置 CCBS-V spec

真空乾燥装置 CCBS-V spec

真空乾燥.jpg独自の薄型パネルヒータを真空チャンバー内に配置することで、第10世代までの大型液晶(LCD)基板の、真空中での脱水ベークや高沸点溶剤の乾燥、アニール処理を可能にしています。
前後工程とのインライン化やロボット対応など様々な形態
に対応します。

Features . Outline特長・概要

  • 高輻射率の薄型パネルヒータを真空チャンバー内部に装着することにより、真空中での
     
    加熱処理が可能
  • 第10世代までの大型基板への対応が可能
  • 前後工程装置との真空ロードロック接続や基板搬送ロボットを組み合わせたシステムなど、
     
    様々な処理形態に対応可能
基板サイズ(mm) 300(W) × 400(L) 〜 3000(W) × 3200(L)
使用温度範囲 RT〜250℃
温度精度 ±3℃
クリーン度 Class 10 (0.3μm)
真空到達度 10-3Pa
用途 脱水ベーク、溶剤乾燥、アニール

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