MEMS用縦型炉 VF-5100

〜Φ200mmのウェーハに対応し、生産ラインに合わせて処理枚数を
50〜150枚の間で選択可能。各種ご要望に応じ、応力制御も可能です。

　

　

Features . Outline特長・概要

• 生産ラインに合わせ、フレキシブルな装置構成が可能
• オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載
• 5枚一括＋枚葉搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
• LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮
• ガスクリーニング対応でメンテナンス頻度を削減
• LP-CVDでは厚膜低応力Si₃N₄膜やPoly-Si膜に対応可能

本体寸法(mm)	900(W)×1850(D)×2930(H)	1000(W)×1950(D)×3300(H)
均熱長(mm)	750	960
使用温度	140〜1150℃
ウェーハサイズ(mm)	〜Φ150	Φ200
一処理枚数	150枚 100枚(※)
ウェーハ搬送	5枚一括＋枚葉
処理	酸化、拡散、LP-CVD、各種アニール
※ 低応力Si3N4は、100枚仕様となります。