300mmウェーハ対応・ラージバッチ縦型炉 VF-5900

Φ150mm、Φ200mmで多数実績のあるSi-IGBT向け裏面電極アニール、
ポリイミドキュア処理をΦ300ｍｍでも可能とする縦型炉。
最大100枚の一括処理が可能。

　

　

300mmウェーハ対応・ミニバッチ縦型炉 VF-5700

Φ150mm、Φ200mmで多数実績のあるSi-IGBT向け裏面電極アニール、
ポリイミドキュア処理がΦ300ｍｍでも可能に。
25〜50枚一括処理でフレキシブルな処理能力を発揮。

　

　

量産用ターンテーブル式縦型炉 VF-5100/VF-5100H

〜Φ200mmのウェーハに対応し、生産ラインに合わせて処理枚数を50〜150枚の間で選択可能。LGOヒータ、二珪化モリブデン（MoSi₂）ヒータを使い分けることにより、高温拡散、裏面電極アニール、ポリイミドキュアなどのプロセスにも対応します。

　

　

Features . Outline特長・概要

300mmウェーハ対応・ラージバッチ縦型炉 VF-5900

• ラージバッチ、最大100枚^※一括処理可能
  　 ※ ウェーハの厚み、撓みによっては、処理枚数は要相談となります。
• 最大16個のFOUPストッカー
• Φ150mm、Φ200mmで培った低温制御技術を踏襲したLGOヒータ搭載。
  　 Φ300ｍｍ処理にも優れた温度特性を発揮
• 枚葉＋5枚一括搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送

300mmウェーハ対応・ミニバッチ縦型炉 VF-5700

• ミニバッチ、25〜50枚一括処理でフレキシブルな処理能力を発揮
• 高速昇温可能なハイパワーヒータ搭載でスループット向上
• 枚葉による高速ウェーハ搬送
• オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載

量産用ターンテーブル式縦型炉 VF-5100/VF-5100H

• 生産ラインに合わせ、フレキシブルな装置構成可能
• オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載
• 5枚一括＋枚葉搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
• LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮
• 二珪化モリブデンヒータを搭載のHタイプをラインアップ

　

シリーズ	VF-5900	VF-5700	VF-5100	VF-5100H
均熱長（mm）	1040	500	960	500
使用温度	140〜1150℃	140〜1150℃	140〜1150℃	700〜1300℃
ウェーハサイズ （mm）	Φ300	Φ300	〜Φ200	〜Φ200
一処理枚数 ※	100枚	50枚	Max.150枚	〜Φ150：100枚 Φ200：75枚
ウェーハ搬送	5枚一括＋枚葉	枚葉	5枚一括＋枚葉
処理	酸化・拡散 LP-CVD 各種アニール	酸化・拡散 LP-CVD 各種アニール	酸化・拡散 LP-CVD 各種アニール	高温酸化・拡散
※ ウェーハの厚み、撓みによっては、処理枚数は要相談となります。