No.1016 2018インダストリ特集号 ランプ加熱方式高速熱処理装置のモデリング・シミュレーション |
| カテゴリー | 資料 |
|---|---|
| 筆者 | 光洋サーモシステム株式会社 商品開発部 服部 昌 |
| 要旨 | The RTP (Rapid Thermal Processor) is a single-wafer thermal processing apparatus used in the semiconductor fi eld featuring high temperature ramp rates and fast processing. In recent years, the use of materials and processes in research and development applications under processing conditions not originally anticipated is expanding. To meet these needs, we worked on modeling, simulation and experimental analysis of heating phenomena by halogen lamps, optical properties of materials and thermal balance inside the furnace. Through these efforts, we clarifi ed the points for carrying out highly accurate thermal processing performance under a broader range of conditions. In this paper, we describe the modeling and simulation of RTP, and the verifi cation of the actual device. |
| キーワード | RTP, lamp annealing, silicon wafer, heat treatment |
| 関連タグ |
Ranking
(2024年4月の集計)
(2023年5月から2024年4月の集計)
JTEKT ENGINEERING JOURNAL
メールマガジン
最新号の公開情報をメールでお知らせいたします。ぜひ、ご登録ください。