No.1022 2025モノづくりとモノづくり設備を支える技術特集号 SiCパワー半導体向け熱処理装置の開発 |
| カテゴリー | 資料 |
|---|---|
| 筆者 | 株式会社ジェイテクトサーモシステム 半導体・開発装置部 大東隆文，青栁圭太 |
| 要旨 | SiCパワー半導体は，次世代の電力変換デバイスとして大きな期待を集めている．当社では，SiC特有のプロセスを処理する活性化，酸窒化，コンタクトアニールの各種炉を提供している．これらの炉は，半導体の高温処理が可能であり，製造プロセスの効率化とコスト削減に貢献できる．本報では，活性化アニール炉の技術的な特長および利点を詳しく説明する． |
| キーワード | 熱処理，活性化処理，SiCパワー半導体，縦型炉 |
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